【恒坤新材:TEOS目前产能利用率为50%以上】9月30日,在半年度业绩会上,恒坤新材董事会秘书陈颖峥表示,公司TEOS产能利用率持续爬升,目前利用率为50%以上。金属基、High-K前驱体的多款产品已进入客户验证阶段,部分新品已通过验证取得订单。公司希望逐步完善前驱体产品布局,努力打造公司营收第二增长曲线。同时,她表示,旋涂介电材料系DRAM、14nm及以下先进逻辑芯片、高堆叠3D NAND存储...
据热爬新闻网了解,【恒坤新材于近日发布公告,以下为公告详细内容。
【恒坤新材:TEOS目前产能利用率为50%以上】9月30日,在半年度业绩会上,恒坤新材董事会秘书陈颖峥表示,公司TEOS产能利用率持续爬升,目前利用率为50%以上。金属基、High-K前驱体的多款产品已进入客户验证阶段,部分新品已通过验证取得订单。公司希望逐步完善前驱体产品布局,努力打造公司营收第二增长曲线。同时,她表示,旋涂介电材料系DRAM、14nm及以下先进逻辑芯片、高堆叠3D NAND存储芯片制造所需核心材料,目前处于研发、产业化准备阶段。
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